A Universidade de Caxias do Sul (UCS) vai receber, nos dias 13 e 14 de novembro, o 2º Simpósio Internacional de Materiais Avançados e a 3ª Mostra de Ciência, Tecnologia e Inovação. Com entrada gratuita, os interessados ​​deverão realizar o credenciamento através do link disponível na divulgação do evento.

O simpósio ocorrerá no dia 13, no Auditório do Bloco H e no UCS Teatro, ambos no Campus-Sede da UCS. A programação da manhã com o Pitch de Inovação em Materiais Avançados, onde acadêmicos e egressos da pós-graduação poderão apresentar seus projetos, muitos deles focados no potencial mercadológico do grafeno. À tarde, haverá apresentação e debate de casos com a participação de renomados especialistas do cenário científico nacional e internacional. O evento será encerrado à noite com uma palestra no UCS Teatro. A programação completa pode ser conferida online.

Nos dias 13 e 14, o Centro de Convivência do Campus-Sede também abrigará a 3ª Mostra de Ciência, Tecnologia e Inovação, que contará com cerca de 30 expositores, incluindo entidades, entidades de classe e startups vinculadas à Agência de Inovação da Universidade – UCSiNOVA. Os visitantes poderão conferir uma exposição de projetos inovadores e soluções criativas.

“A realização desses eventos cria um ambiente propício para a inovação e o empreendedorismo, consolidando parcerias e conexões do Parque de Ciência, Tecnologia e Inovação da UCS – TecnoUCS e do laboratório UCSGRAPHENE, focado no desenvolvimento de novos produtos com grafeno. Essa iniciativa representa o compromisso da UCS com a pesquisa e inovação, oferecendo soluções aos diversos segmentos da indústria e à comunidade”, ressalta Neide Pessin, pró-reitora de Inovação e Desenvolvimento Tecnológico da UCS.

Serviço:

• O quê: 2º Simpósio Internacional de Materiais Avançados e 3ª Mostra de Ciência, Tecnologia e Inovação da UCS
• Quando: dias 13 e 14 de novembro
• Onde: Campus-Sede da UCS (Auditório do Bloco H, UCS Teatro e Centro de Convivência), em Caxias do Sul
• Quanto: gratuito. Inscrições neste link.